什么是準分子雷射 (Excimer Laser )
發布時間：2018-01-03 12:18瀏覽次數：
所謂準分子雷射（Excimer Laser），是指在雷射的介質中，使用稀有氣體和鹵素等混合氣體的紫外線（UV）雷射，具代表性的例子有ArF準分子雷射（波長193nm）、KrF準分子雷射(波長248nm)、XeCl準分子雷射（波長308nm）、XeF準分子雷射（波長351nm）。
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準分子雷射的應用例 準分子雷射散發的紫外光，擁有高光子能量以及非常高的尖峰功率，非常具有魅力，因此各個工業領域都在進行這種強烈光線的應用研究。舉例來說，像是雕刻CO2雷射和YAG雷射所無法應付的材料、高分子膜和半導體薄膜等的剝離加工、鐵氟龍等樹脂的表面改質、摻雜或沉積等半導體製造過程的應用，以及TSV的穿孔等。 其中最成功的例子之一是，半導體製程當中微影（Lithography）技術所用的光源。
此外，近年來伴隨著液晶的高度精細化，製造液晶用的雷射退火也受到矚目。這在製造多結晶低溫多晶硅（LTPS=Low Temperature Poly-silicon）的過程中，是不可或缺的工序。
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EXCIMER Laser 實驗室和庫存
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